福建兄妹 比太科技肯求用于异质结电板I层钝化的联接镀膜专利,大幅栽培镀膜速率|腔体|单晶硅

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    福建兄妹 比太科技肯求用于异质结电板I层钝化的联接镀膜专利,大幅栽培镀膜速率|腔体|单晶硅
    发布日期:2024-12-17 21:01    点击次数:100

    福建兄妹 比太科技肯求用于异质结电板I层钝化的联接镀膜专利,大幅栽培镀膜速率|腔体|单晶硅

    金融界2024年12月17日音讯福建兄妹,国度学问产权局信息披露,常州比太科技有限公司肯求一项名为“用于异质结电板I层钝化的联接镀膜次序、安装及系统”的专利,公开号 CN 119121194 A,肯求日历为 2024年9月。

    专利纲目披露,本发明触及异质结电板钝化镀膜手艺界限,具体触及一种用于异质结电板I层钝化的联接镀膜次序、安装及系统,包括如下设施:设施S1,将PECVD腔体的温度预设至220‑260℃,将N型单晶硅片送入PECVD腔体;设施S2,出手第一电源,通入O2和SiH4,电磁场的功率设定为100‑600W,在N型单晶硅片的名义赢得I1层;设施S3,出手第二电源,通入SiH4,电磁场的功率设定为100‑400W,在I1层的名义赢得I2层;设施S4,出手第三电源,通入SiH4和H2,电磁场的功率设定为100‑400W,在I2层的名义赢得I3层;设施S5,将I层钝化的N型单晶硅片送出PECVD腔体;本发明在千里积I1层的同期通入O2以扼制高温带来的外延滋长,互助电磁场,从而在高温环境下大幅栽培了镀膜的速率。

    本文源自:金融界

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    作家:谍报员福建兄妹



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